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第四百八十六章 芯片突破的希望（第1页）

发布于2023-09-0922:16|VIP章节

小别墅二楼，书房中，徐川烧了壶水用大长老送给他的茶叶泡了几杯清茶。

端递给两人后，他浅抿了一口后开口问道：“不知道丁先生这次紧急过来找我，到底有什么事情？”

丁经国放下手中的茶杯，思索了一下，组织了会语言后开口说：“这刚过年就过来冒昧打扰您，主要是涉及到一些芯片方面的事情，想请教一下徐院士您。”

闻言，徐川有些诧异的看了眼这位发改的大佬，好奇的问道：“芯片？”

丁经国点了点头，道：“是的，关于芯片方面的。”

微微顿了顿，他接着道：“在芯片方面，咱们目前面临的处境相当的严峻。近些年来，因为国际形势的变化，咱们很多的高科技企业遭到了来自一些西方企业恶意的技术封锁。”

“在垄断了芯片等行业的基础上，他们恶意的限制其他人购买产品和组件，包括电子芯片。致使其他企业迫不得已必须要交纳大额的保护费不说，还随时会违背契约精神，滥用和泛化安全概念。”

“当然，这次来呢，并不是向您诉苦。咱们也已经认识到了半导体产业的战略重要性，一直都在积极加大对研发投入的力度。”

“特别是在高端芯片领域，鼓励企业增加研发投入，加强技术创新和自主知识产权保护，都是咱们一直在做的事情。”

“只是在这一领域，要想赶上世界先进水平的半导体产业，咱们面临着巨大的技术挑战。尤其是高端芯片制造领域，如7纳米以下的集成电路制程，咱们远远落后于那些在芯片历史上有着几十年发展的西方国家。”

“想要迎头赶上，是一项庞大而艰巨的任务，需要持续的努力和创新。”

“不过不瞒徐院士，在这方面咱们已经有了一些突破，但遇到了一些关键性的问题，暂时无人能解决。”

“如果解决了这一块的问题，咱们或许能做出来接近7纳米进程的芯片。”

“而这次过来拜访您，就是想请您帮忙看看，能不能解决这个问题。”

丁经国简单的向徐川简单的介绍了一下来的目的。

听完这些，徐川有些惊讶诧异的问道：“七纳米？”

老实说，他上辈子没听说过这个消息啊。

上辈子虽然一直都在米国，但对于国内的发展他并不是没有关注。

从记忆中来看，华国真正突破七纳米级别，好像还需要一些年的时间。

其原因在于7纳米是芯片技术的一个重要里程碑，它代表了制造芯片的最先进工艺之一，七纳米以下的芯片属于先进进程芯片。

相比之前的工艺，如14纳米或10纳米，7纳米及以下的芯片使用的设计、光刻、材料等各方面都有一个重大的转折点。

不仅仅是可以在同样大小的芯片上容纳更多的晶体管，提供更强的计算和处理能力，降低功耗和热量的产生，提高电池续航时间和设备的可靠性等等。

七纳米及以下的芯片在设计材料、工艺等各方面都有巨大的改变。

比如在芯片的水平阵列中采用环栅（GAA）纳米线，在7纳米这个节点时，就不可避免要采用隧道FET和III-V族元素沟道材料和垂直纳米线来完善。

而7纳米以上的工艺则不需要这些。

说起来，芯片的发展和设计制造，其实就像是一栋楼的楼梯。

从高层逐渐往下走，每下降一点就走下一个台阶，就意味着解决一个问题。

而到了28纳米、14纳米、7纳米、5纳米、3纳米、2纳米这些楼层，就意味着你到了对应楼层的转折处。

能支撑你往下继续走的，不仅仅是某一个问题的解决，而是某一系列，甚至更多的问题解决。

光源、材料、EDA、设计等等各方面，全都要突破才能继续往下沉。

比如光源，不同的光波长不同，能够进行曝光尺度也不同，而在芯片领域，随着微电子制造工艺的不断进步，芯片晶体管的尺寸越来越小，对器件结构的要求越来越高，就需要更高分辨率和更精细的曝光图案。

稍微关注一点这块的人，目前市面上的光刻机大体上分为DUV和EUV。

DUV是目前比较成熟的方案，现阶段最高采用193nm波长的深紫外光源，被广泛应用在7nm以及7nm以前的工艺里。

而伴随着工艺的继续微缩，DUV已经力不从心，就需要使用极紫外光光源的EUV设备了。

所以徐川才对这位丁蔀长所说的7纳米这么惊讶。

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