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第36章 EUV光源（第1页）

“我叫路阳，马路的路，阳光的阳！”

路阳脸上一直挂着微笑，没有一点几百亿企业老板的气场，反而更像高校里跟着教授跑腿的研究生。

介绍完自己，接着又说道：“半导体芯片直接决定着一个国家的科技发展，不能被任何个人、企业把控，也不能被西方欧米势力卡住要害，华芯的目标便是要在5年内，让华国半导体芯片实现完全自主化研发，在技术上实现全球第一。”

“我能为各位提供的就是资金保障，市场保障，以及落地应用方面的整合。”

廖锡昌也是第一次听到路阳的目标，老人轻轻点头，他是真的把路阳当成了自己的学生，华芯如今的成绩已经足够亮眼，但他从未在路阳身上发现半点自满。

“说得好，路总！”专家组中有人说道。

“行了，还是叫他小路吧，华芯在申城松江那边的光刻机生产线计划投入500亿，从立项开始就是为了自主化研发，中芯国际的情况不能再次出现，动不动就被别人禁这禁那的。”

廖锡昌说完又看向新来的4人，“四位都说说看吧，一下午的时间，应该了解得差不多了。”

柴文政年纪最大，率先开口：“廖老，各位前辈，路……，小路，大家好，在离子束抛光技术上，要想实现0.02纳米的光滑级别，以现在长春光机所的设备还不够，需要从所里那边调配几台设备过来。”

“目前23所在0.1纳米抛光技术上已经有所突破，但是从0.1纳米到0.02纳米，还需时间进行验证，专利部分不用担心，所里的设备拥有完整的专利壁垒。”

“我补充一点，光是设备还不够，只有结合镀膜技术才有机会突破1纳米，所里这方面的技术还没达到资料上的水平，好在资料的内容十分详细，完全掌握不会太久，廖老，这份资料的镀膜技术23所那边可以使用吗？”

丁冉补充说道，如果获得这份技术授权，23所也会受益匪浅。

廖锡昌开口道：“小丁啊，难就难在这点，你不光要掌握，还要加入自己的东西，才能使用。”

这样一解释丁冉明白过来，看来自己猜得不错，这份绝密的技术文件，应该就是来自路阳的公司，至于获取方式嘛，商业上的行为可就多了，她也懒得去追根问底。

“明白了，廖老，我大概有方向如何解决这个问题，只是所花费的时间会比原来长些，可能还得从所里把我们两人的助手要过来。”

23所这边一个下午时间，便有了大概的方向，实力果然强啊，路阳心里这样想着，不由看向大连光源那边。

周宇跟纪益玲是在座的众人中除了路阳外年纪最小的，说话非常客气，“各位领导，我跟益玲正巧是研究紫外光的，方向也确实在光刻机的应用上。”

光刻机分为紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）、极紫外光源（EUV）。

最早的光刻机光源为汞灯产生的紫外光源（UV），之后业内开始采用准分子激光的深紫外光源（DUV），将波长进一步缩小到ArF的193nm，后来逐步发展为ArF加浸入技术成为主流。

EUV光刻技术不使用用ArF加浸入技术，而是将二氧化碳激光照射在液态金属锡上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。

周宇先简要介绍了下光刻机的两种光源，接着又说道：

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