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第141章 没想到大佬这么直接要自己开干（第1页）

目前，阿斯麦尔的光刻机已经进入了EUV（极紫外光）光刻系统，去年，刚刚发售第二代EUV系统，nXE：33ooB。

已经可以一次曝光做到22nm以内的工艺制程，当然它的价格超过了2亿米元。

江成前世对光刻这产业并不熟悉，目前还是在深入研究过程中。

当然，他越了解，越觉得这个公司是整个产业链（西方）供起了来的。

德国的镜头，日国的材料，米国的光源……

但目前华国的水平却依旧落后。

整个国产光刻机，只有魔都微电子做得稍微好一些，但目前主要针对封装光刻机。

去年8月，刚刚发布了Am-oLEDTFT电路制造的SSB2251o，但分辨率只有2umLS，精度o.6um，也就是6oonm制程。

制程落后，良品率也不行。

而部件中最为重要的镜头部件，江成目前只看到有常春光机所在持续研发；至于双工作台部件，目前水木大学精密仪器仪正在研发。

此外，据说刚刚成立不久的起尔机电，将在流体净化和测控，也就是浸没式系统方面进行发力。

多数仍是在实验中研发，还没有形成商用可能。

更不提光刻胶、光刻气体、光掩模版、光刻机缺陷检测设备、涂胶显影设备这些材料、设备了。

难！真的是太难了！

这些天里头，虽然江成全身心地在体内模拟实验室里头，进行了深入的分析和模拟实验。

但对于这款制程落后的光刻机，他仍旧非常不熟悉。

这种不熟悉，是因为江成他，看不懂。

需要光学、机械、材料、自动化、计算机软硬件等诸多专业知识。

江成目前仅对计算机软件更熟悉一些，硬件这块都还准备跟着徐伟教授学习，至于其他方向，那真不是他有精力去钻研了。

当然，后面学有余力的时候，涉猎一二倒是可以。

暂时收起了研发光刻机的冲动，又是新的一个学期了，江成必须开启新的学习和研发进程。

学习上，在继续深入多维脉冲神经网络结构之外，还需要学习半导体硬件相关知识。

而研发上，江成需要主攻Soc芯片，以及牵头EDA软件设计研发。

不过，新学期一开始，江成便被罗瑞华教授叫到了办公室。

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计算机系教授办公室。

“感觉怎么样？”罗瑞华续了一杯水，递给他正在沙发边上看着论文的头发发白的教授。

厚厚的一叠论文，封面正是江成的《基于脉冲神经网络一种新型结构的模型构建与仿真研究》。

老教授慢慢地摘下了老花镜，“不可思议，不可思议啊！”

“当初我看到这篇论文的时候，也是震惊半晌。”罗瑞华坐了下来，叹道，“我估计这小子也没有想到自己整出的这个新结构能有多大的前景吧！”

“当真是大三的本科生？”老教授抬起头，盯着罗瑞华。

“不错，不过已经在读我的博士生了。”罗瑞华忽而有些得意了起来。

“你倒是有眼光。”

“张教授，他说想发cVPR会议，我有些拿捏不准。”罗瑞华找他过来，关键还是因为这个事情。

截止目前，知道的这篇论文的并不多。

老张教授，也便是计算机系的最牛院士，张柏，华国科学院士、水木大学计算机系教授，华国人工智能奠基人。

他今年已经78岁了。

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